Установки вакуумной пайки предназначены для осуществления пайки в вакууме, азоте и восстановительной атмосфере. В процессе осуществляется контроль подачи технологического газа для обеспечения необходимой консистенции газа в каждом процессе пайки.
| Размеры камеры | 110×110 – 320×320 мм |
|---|---|
| Температура | 450–500 °С |
| Скорость набора | 120 °С/мин |
| Степень вакуума | 1 Па / 10–4 Па |
| Охлаждение | 120°С/мин |
Печи быстрого термического отжига является отличным инструментом для различных полупроводниковых процессов, таких как отжиг пластин, легирование, быстрые термические процессы и т. д.
| Диаметр подложек | до 200 мм |
|---|---|
| Температура | до 1450 °С |
| Скорость набора | 200 °С/сек |
| Степень вакуума | 10–3 мбар |
Термическое оборудование в микроэлектронике играет ключевую роль в процессах изготовления компонентов, таких как микросхемы и интегральные схемы. Это оборудование используется для нагрева или охлаждения материалов и устройств в целях изменения их свойств или качества. Такое оборудование становится неотъемлемой частью процессов, связанных с диффузией, отжигом, осаждением, термообработкой и испытаниями на надежность.
Эффективность и точность термического оборудования критически важны для современных производственных процессов в микроэлектронике, где требуется высокая точность и повторяемость.